Grafitni prijemnici s poklopcem od silicij karbida za cijev

Kratki opis:

Semicera nudi sveobuhvatan raspon prijemnika i grafitnih komponenti dizajniranih za različite reaktore za epitaksiju.

Kroz strateška partnerstva s vodećim proizvođačima originalne opreme, opsežnom ekspertizom u materijalima i naprednim proizvodnim mogućnostima, Semicera isporučuje prilagođene dizajne za ispunjavanje specifičnih zahtjeva vaše primjene. Naša predanost izvrsnosti osigurava da dobijete optimalna rješenja za svoje potrebe epitaksi reaktora.

 


Pojedinosti o proizvodu

Oznake proizvoda

Opis

Naša tvrtka pruža usluge procesa prevlačenja SiC metodom CVD na površini grafita, keramike i drugih materijala, tako da posebni plinovi koji sadrže ugljik i silicij reagiraju na visokoj temperaturi kako bi se dobile molekule SiC visoke čistoće, molekule taložene na površini presvučenih materijala, formiranje SIC zaštitnog sloja.

SiC induktori 1
SiC induktori2

Glavne značajke

1 .SiC presvučen grafitom visoke čistoće

2. Vrhunska otpornost na toplinu i toplinska ujednačenost

3. Fini SiC kristal obložen za glatku površinu

4. Visoka otpornost na kemijsko čišćenje

Glavne specifikacije CVD-SIC premaza

SiC-CVD svojstva
Kristalna struktura FCC β faza
Gustoća g/cm³ 3.21
Tvrdoća Tvrdoća po Vickersu 2500
Veličina zrna μm 2~10
Kemijska čistoća % 99.99995
Toplinski kapacitet J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura sublimacije 2700
Fleksuralna snaga MPa (RT 4 točke) 415
Youngov modul Gpa (savijanje od 4 točke, 1300 ℃) 430
Toplinska ekspanzija (CTE) 10-6K-1 4.5
Toplinska vodljivost (W/mK) 300
图片 3
图片 1
图片 2
图片 4
slika 5
Semicera Radno mjesto
Semicera radno mjesto 2
Oprema stroj
CNN obrada, kemijsko čišćenje, CVD premaz
Naša usluga

  • Prethodna:
  • Sljedeći: