TheMOCVDMetoda je jedan od najstabilnijih procesa koji se trenutno koristi u industriji za uzgoj visokokvalitetnih monokristalnih tankih filmova, kao što su jednofazni InGaN epilaji, III-N materijali i poluvodički filmovi sa strukturama s više kvantnih jama, i od velike je važnosti u proizvodnja poluvodičkih i optoelektroničkih uređaja.
TheSiC premaz MOCVD susceptorje specijalizirani držač pločice presvučen silicijevim karbidom (SiC) zaepitaksijalni rast u procesu metalnog organskog kemijskog taloženja iz pare (MOCVD).
SiC premaz ima izvrsnu kemijsku otpornost i toplinsku stabilnost, što ga čini idealnim izborom za MOCVD susceptore koji se koriste u zahtjevnim epitaksijalnim procesima rasta.
Ključna komponenta MOCVD procesa je suceptor, koji je ključni element za osiguravanje ujednačenosti i kvalitete proizvedenih tankih filmova.
Što je suceptor? Susceptor je specijalizirana komponenta koja se koristi u MOCVD procesu za podupiranje i zagrijavanje podloge na koju se nanosi tanki film. Ima više funkcija, uključujući upijanje elektromagnetske energije, pretvaranje iste u toplinu i ravnomjernu raspodjelu topline na podlogu. Ovo ravnomjerno zagrijavanje bitno je za rast jednolikih tankih filmova s preciznom debljinom i sastavom.
Vrste suceptora:
1. Grafitni prijemnici: Grafitni prijemnici često su presvučeni zaštitnim slojem kao što jesilicijev karbid (SiC), koji je poznat po svojoj visokoj toplinskoj vodljivosti i stabilnosti. TheSiC premazpruža čvrstu, zaštitnu površinu otpornu na koroziju i degradaciju na visokim temperaturama.
2. Prijemnici od silicij karbida (SiC): Ovi suceptori su u potpunosti izrađeni od SiC i imaju izvrsnu toplinsku stabilnost i otpornost na trošenje. SiC susceptori su posebno prikladni za visokotemperaturne procese i korozivna okruženja.
Kako suceptori rade u MOCVD-u:
U MOCVD procesu prekursori se uvode u reakcijsku komoru gdje se razgrađuju i reagiraju stvarajući tanki film na podlozi. Susceptor igra vitalnu ulogu osiguravajući da se supstrat ravnomjerno zagrijava, što je ključno za postizanje dosljednih svojstava filma na cijeloj površini supstrata. Materijal i dizajn prijemnika pažljivo su odabrani kako bi zadovoljili specifične zahtjeve procesa taloženja, kao što su temperaturni raspon i kemijska kompatibilnost.
Prednosti korištenja visokokvalitetnih suceptora:
• Poboljšana kvaliteta filma: Omogućujući jednoliku raspodjelu topline, suceptor pomaže u postizanju filmova s dosljednom debljinom i sastavom, što je ključno za performanse poluvodičkih uređaja.
• Poboljšana učinkovitost procesa: Visokokvalitetni susceptori povećavaju ukupnu učinkovitost MOCVD procesa smanjenjem vjerojatnosti grešaka i povećanjem prinosa upotrebljivih filmova.
• Životni vijek i pouzdanost: Susceptori izrađeni od izdržljivih materijala kao što je SiC osiguravaju dugoročnu pouzdanost i smanjuju troškove održavanja.
Suceptor je sastavni dio MOCVD procesa i izravno utječe na kvalitetu i učinkovitost taloženja tankog filma. Za više informacija o dostupnim veličinama, MOCVD susceptorima i cijenama, ne ustručavajte se kontaktirati nas. Naši inženjeri rado će vas savjetovati o odgovarajućim materijalima i odgovoriti na sva vaša pitanja.
Telefon: +86-13373889683
WhatsAPP: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Vrijeme objave: 12. kolovoza 2024