Prevlake tantal karbida (TaC) visoke čistoće, visoke temperaturne stabilnosti i visoke kemijske otpornosti

Kratki opis:

TaC premaz je nova generacija materijala otpornog na visoke temperature, s boljom stabilnošću na visokim temperaturama od SiC, kao premaz otporan na koroziju, premaz otporan na oksidaciju, premaz otporan na habanje, može se koristiti u okruženju iznad 2000 ℃, naširoko se koristi u ultra-zrakoplovstvu visokotemperaturni vrući krajnji dijelovi, treća generacija rasta poluvodičkih monokristala i druga polja.


Pojedinosti o proizvodu

Oznake proizvoda

Semicera Semicera nudi specijalizirane premaze od tantal karbida (TaC) za različite komponente i nosače.Semicera Semicera vodeći postupak premazivanja omogućuje premazima tantal karbida (TaC) postizanje visoke čistoće, visoke temperaturne stabilnosti i visoke kemijske tolerancije, poboljšavajući kvalitetu proizvoda SIC/GAN kristala i EPI slojeva (TaC susceptor presvučen grafitom) i produljenje životnog vijeka ključnih komponenti reaktora.Upotreba TaC prevlake od tantal karbida je za rješavanje problema rubova i poboljšanje kvalitete rasta kristala, a Semicera Semicera je napravila proboj u rješavanju tehnologije prevlake tantal karbida (CVD), dostigavši ​​međunarodnu naprednu razinu.

Nakon godina razvoja, Semicera je osvojila tehnologijuCVD TaCuz zajedničke napore odjela za istraživanje i razvoj.Defekti se lako mogu pojaviti u procesu rasta SiC pločica, ali nakon upotrebeTaC, razlika je značajna.Ispod je usporedba pločica sa i bez TaC, kao i Simicera' dijelova za rast monokristala

微信图片_20240227150045

sa i bez TaC

微信图片_20240227150053

Nakon korištenja TaC (desno)

Osim toga, životni vijek Semicera TaC premaza je duži i otporniji na visoke temperature od SiC premaza.Nakon dugog vremena podataka laboratorijskih mjerenja, naš TaC može dugo raditi na maksimalno 2300 stupnjeva Celzijusa.Slijede neki od naših uzoraka:

微信截图_20240227145010

(a) Shematski dijagram uređaja za uzgoj monokristalnih ingota SiC metodom PVT (b) Gornji držač presvučen TaC (uključujući SiC klice) (c) Grafitni vodeći prsten presvučen TAC-om

ZDFVzCFV
Glavna značajka
Semicera Radno mjesto
Semicera radno mjesto 2
Oprema stroj
CNN obrada, kemijsko čišćenje, CVD premaz
Naša usluga

  • Prethodna:
  • Sljedeći: