Silicij karbid vezan silicijevim nitridom
Si3N4 vezani SiC keramički vatrostalni materijal, pomiješan je s finim prahom SIC visoke čistoće i silicijevim prahom, nakon staze kliznog lijevanja, reakcija sinterirana na 1400~1500°C.Tijekom procesa sinteriranja, punjenjem dušika visoke čistoće u peć, tada će silicij reagirati s dušikom i generirati Si3N4, tako da se SiC materijal povezan sa Si3N4 sastoji od silicij nitrida (23%) i silicij karbida (75%) kao glavne sirovine , pomiješan s organskim materijalom, i oblikovan miješanjem, ekstruzijom ili izlijevanjem, zatim napravljen nakon sušenja i nitrogenizacije.
Značajke i prednosti:
1.Hotpornost na visoke temperature
2. Visoka toplinska vodljivost i otpornost na udarce
3. Visoka mehanička čvrstoća i otpornost na habanje
4. Izvrsna energetska učinkovitost i otpornost na koroziju
Pružamo visokokvalitetne i precizno strojno obrađene NSiC keramičke komponente koje obrađuju
1.Slip lijevanje
2. Ekstrudiranje
3. Uni aksijalno prešanje
4. Izostatičko prešanje
Tehnički list materijala
| >Kemijski sastav | Sic | 75% |
| Si3N4 | ≥23% | |
| Slobodan Si | 0% | |
| Nasipna gustoća (g/cm3) | 2.70～2.80 | |
| Prividna poroznost (%) | 12～15 | |
| Čvrstoća na savijanje pri 20 ℃ (MPa) | 180～190 | |
| Čvrstoća na savijanje pri 1200 ℃ (MPa) | 207 | |
| Čvrstoća na savijanje pri 1350 ℃ (MPa) | 210 | |
| Tlačna čvrstoća na 20 ℃ (MPa) | 580 | |
| Toplinska vodljivost na 1200 ℃ (w/mk) | 19.6 | |
| Koeficijent toplinskog širenja na 1200 ℃ (x 10-6/C) | 4.70 | |
| Otpornost na toplinski udar | Izvrsno | |
| Maks.temperatura (℃) | 1600 | |
WeiTai Energy Technology Co., Ltd. je vodeći dobavljač napredne poluvodičke keramike i jedini proizvođač u Kini koji može istovremeno ponuditi silicij karbid keramike visoke čistoće (osobito rekristalizirani SiC) i CVD SiC premaz.Osim toga, naša je tvrtka također posvećena poljima keramike kao što su glinica, aluminijev nitrid, cirkonijev oksid i silicij nitrid itd.
Naši glavni proizvodi uključuju: disk za jetkanje od silicij-karbida, vuču za čamac od silicij-karbida, ploču od silicij-karbida (fotonaponski i poluvodič), cijev za peć od silicij-karbida, konzolnu lopaticu od silicij-karbida, stezne glave od silicij-karbida, gredu od silicij-karbida, kao i CVD SiC premaz i TaC premazivanje.Proizvodi koji se uglavnom koriste u poluvodičkoj i fotonaponskoj industriji, kao što su oprema za rast kristala, epitaksija, jetkanje, pakiranje, premazivanje i difuzijske peći, itd.
Naša tvrtka ima kompletnu proizvodnu opremu kao što su oprema za kalupljenje, sinteriranje, obradu, premazivanje itd., koja može dovršiti sve potrebne karike proizvodnje proizvoda i imati veću mogućnost kontrole kvalitete proizvoda;Optimalan plan proizvodnje može se odabrati prema potrebama proizvoda, što rezultira nižim troškovima i pruža kupcima konkurentnije proizvode;Možemo fleksibilno i učinkovito rasporediti proizvodnju na temelju zahtjeva za isporuku narudžbe iu kombinaciji s online sustavima za upravljanje narudžbama, pružajući kupcima brže i zajamčenije vrijeme isporuke.
